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allbetgaming代理:顶级光刻机售价近12亿元!中国企业能随便买的,是另一种

admin2020-10-1715

干地:恩沙基气概似我

【NowSports】周三意甲,国际米兰造访升班马宾尼云图,教练干地扬言:「恩沙基作风似我。」宾尼云图由前意大利国脚恩沙基领军,上场反胜森多利亚,国米主帅干地(AntonioConte)预期对阵时会

ASML的EUV光刻机是现在全球唯一可以知足22nm以下制程芯片生产的装备,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻机必不可缺。一台EUV光刻机的售价为1.48亿欧元,折合人民币高达11.74亿元。媒体称,台积电采购的EUV光刻机已经跨越30台,三星累计采购的EUV光刻机不到20台。

围绕芯片制造要用到的关键装备――光刻机,一直不缺话题。

好比,一台EUV光刻机卖多少钱?谁买走了这些EUV光刻机?大陆厂商还能买到光刻机吗?为何三星高管最近跑去荷兰造访ASML总部?

上面这几个问题,实在可以在ASML和台积电最新宣布的三季报及业绩说明会中找到部门谜底。两家公司的职位无需多言,前者是全球顶级光刻机龙头,后者是全球芯片制造龙头。

一台售价近12亿元

关于售价,ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink10月14日先容公司三季度业绩情形时间接给出了谜底。他示意,“我们第三季度的新增订单到达29亿欧元,其中5.95亿欧元来自4台EUV装备。”简朴换算一下,一台EUV光刻机的售价为1.48亿欧元,折合人民币高达11.74亿元。

allbetgaming代理:顶级光刻机售价近12亿元!中国企业能随便买的,是另一种 第1张图片泉源:ASML官网

这是什么观点?2019年,A股另有1462家上市公司的营业收入低于11.74亿元。换句话说,ASML每年卖一台EUV光刻机,收入就可完胜A股的1/3公司。

售价这么高,ASML基本不愁买家,公司愁的是产能跟不上需求。

ASML的EUV光刻机是现在全球唯一可以知足22nm以下制程芯片生产的装备,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻机必不可缺。

据了解,EUV光刻机不需要多重曝光,一次就能曝出想要的精致图形,没有超纯水和晶圆接触,在产品生产周期、光学相近效应矫正的庞大水平、工艺控制、良率等方面都有显著优势。

ASML的EUV光刻机也在推陈出新。公司10月14日还宣布了EUV门路图上的新机型TWINSCANNXE:3600D的最终规格,曝光速率到达每小时曝光160片晶圆,提高了18%的生产效率,设计于2021年的中期最先发货。

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ASML三季度净销售额为40亿欧元,预计四季度的销售额将在36亿欧元到38亿欧元之间,毛利率约50%。“2021年,由于宏观环境的不确定因素,包罗疫情给经济带来的影响,以及地缘政治的转变,我们预期业绩增进将是低双位数。尽管如此,终端市场驱动因素的转变(好比5G、人工智能和高性能盘算),将推动先进制程的逻辑芯片和存储芯片的市场需求,这都需要使用到先进的光刻机。” Peter Wennink说。

芯片大厂争购

ASML的EUV光刻机在2016年正式上市,主要供应给英特尔、台积电和三星这三家大客户。其EUV光刻机出货量一直在增添,从2016年的5台上升到2019年的26台。

现在,台积电已将可量产的工艺推到5nm,大幅领先英特尔和三星;同时,凭据设计,公司3nm工艺将在明年试产,2022年下半年正式量产。主要的是,客户对其7nm工艺和5nm工艺的需求十分强劲,这两项工艺的收入占比在三季度已达43%。因此,台积电对EUV光刻机的需求无疑也是最强劲的。

allbetgaming代理:顶级光刻机售价近12亿元!中国企业能随便买的,是另一种 第2张图片泉源:台积电三季报

近期有媒体报道,由于先进工艺推进顺遂和订单扩大,台积电将加大EUV光刻机的采购力度,预计到2021年底采购量至55台左右。台积电方面回复中国证券报记者采访时示意,公司不谈论市场听说。前述媒体援引半导体供应链新闻称,台积电采购的EUV光刻机已经跨越30台,三星累计采购的EUV光刻机不到20台。

值得注意的是,ASML的财报显示,三季度来自中国台湾地区孝敬的收入占比为47%,环比提高了26个百分点。业界以为,这主要是由台积电采购EUV光刻机带来。

与此同时,ASML来自韩国的收入占比出现下降,从二季度的38%下降到三季度的26%。有报道称,三星电子副董事长李在�F克日飞赴ASML荷兰总部会晤,双方探讨的焦点是EUV光刻机的供应和装配(5nm),同时就面向AI等领域的下一代光刻机研发互助交换了意见。

固然,ASML光刻机的买家另有大陆厂商,但购置EUV光刻机存在阻力,而购置DUV光刻机无碍。Peter Wennink示意,“凭据当前律例,ASML无需获得美国出口许可证便可以继续从荷兰向中国客户出货DUV光刻系统;对于直接从美国发货系统或零件到受律例影响的客户,ASML需获得许可证。”

EUV光刻机和DUV光刻机有什么差别?

凭据曝光源的差别,光刻机分为EUV型(极深紫外线)、DUV型(深紫外线)。从制程局限来看,DUV基本上只能做到25nm,而EUV能知足10nm以下的晶圆制造需求。

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